真空鍍膜機-至成真空科技-鍍膜機

濺鍍機設備與工藝（磁控濺鍍）
濺鍍機由真空室，排氣系統(tǒng)，濺射源和控制系統(tǒng)組成。濺射源又分為電源和濺射槍（sputtergun）磁控濺射槍分為平面型和圓柱型，其中平面型分為矩型和圓型，靶材料利用率30-40%，圓柱型靶材料利用率gt;50%濺射電源分為：直流（dc）、射頻（rf）、脈沖（pulse），直流：800-1000v（max）導體用，須可災弧。
射頻：13.56mhz，非導體用。脈沖：泛用，新發(fā)展出濺鍍時須控制參數(shù)有濺射電流，電壓或功率，以及濺鍍壓力（5×10-1—1.0pa），若各參數(shù)皆穩(wěn)定，膜厚可以鍍膜時間估計出來。
靶材的選擇與處理十分重要，純度要佳，質(zhì)地均勻，沒有氣泡、缺陷，表面應平整光潔。對于直接冷卻靶，須注意其在濺射后靶材變薄，有可能*損特別是非金屬靶。一般靶材薄處不可小于原靶厚之一半或5mm。
磁控濺鍍操作方式和一般蒸鍍相似，先將真空抽至1×10-2pa，再通入ar氣（ar）離子轟擊靶材，在5×10-1—1.0pa的壓力下進行濺鍍其間須注意電流、電壓及壓力。開始時濺鍍?nèi)粲写蚧?，可緩慢調(diào)升電壓，待穩(wěn)定放電后再關shutter.在這個過程中，離子化的惰性氣體（ar）清洗和暴露該塑膠基材表面上數(shù)個毛細微空，并通過該電子與自塑膠基材表面被清潔而產(chǎn)生一自由基，并維持真空狀態(tài)下施以濺鍍形成表面締結構，使表面締結構與自由基產(chǎn)生填補和高附著性的化學性和物理性的結合狀態(tài)，以在表面外穩(wěn)固地形成薄膜.其中，薄膜是先通過把表面造物大致地填滿該塑膠毛細微孔后并作鏈接而形成．
真空鍍膜機對環(huán)境的要求
真空鍍膜機在使用的時候，難免會因為使用的問題使得真空鍍膜機沾上其他污染物，所以經(jīng)常清洗真空鍍膜機也成為*機器的一個重要部分，在真空鍍膜機使用鍍膜材料鍍膜之前，對鍍膜材料做簡單的表面清潔能延長鍍膜機使用壽命，因為各種污染物不僅使真空系統(tǒng)不能獲得所要求的真空度，還會影響真空部件連接處的強度和密封性能。
一般在使用中，真空鍍膜機常見的污染物有：
1、油脂包括加工、裝配、操作的時候沾染上的潤滑劑、切削液、真空油脂等；
2、操作時候的手汗，吹氣的時候的水汽和唾液等等；酸、堿、鹽類物質(zhì)清洗時的殘余物質(zhì)、手汗、水中的礦物質(zhì)等；還有拋光殘渣及環(huán)境空氣中的塵埃和其它有機物。
清潔這些污染物可以改進真空鍍膜機工作穩(wěn)定性，使工作可以更順利的進行。
真空鍍膜機原理和各部件分析
機械泵：也叫前級泵，機械泵是應用廣泛的一種低真空泵，它是用油來保持密封效果并依靠機械的方法不斷的改變泵內(nèi)吸氣空腔的體積，使被抽容器內(nèi)氣體的體積不斷膨脹從而獲得真空。
1、機械泵的分類：機械泵有很多種，常用的有滑閥式(此主要應用于大型設備)、活塞往復式、定片式和旋片式(此目前應用廣泛，本文主要介紹)四種類型。
2、機械泵是從大氣開始工作的，它的主要參數(shù)有*限真空，抽氣速率，此為設計與選用機械泵的重要依據(jù)。單級泵可以將容器從大氣抽到1、0*10-1pa的*限真空，雙級機械泵可以將容器從大氣抽到6、7*10-2帕，甚至更高
3、機械泵常常被用來抽除干燥的空氣，但不能抽除含氧量過高和腐蝕性的氣體，機械泵一般被用來抽除氣體，但是對水氣沒有好的效果，所以它不能抽除水氣。旋片泵中起主要作用的部件是彈片、定子、轉子等，轉子在定子里面但與定子不同心軸，象兩個內(nèi)切圓，轉子槽內(nèi)裝有兩片彈片，兩彈片中間裝有彈簧，保證了彈片緊緊貼在定子的內(nèi)壁。