KRI 離子源用于離子束拋光機

離子束拋光適用于大面積、異型、特殊材料等加工對象的非接觸式修形及拋光,精度可達亞納米級,被譽為拋光.離子束拋光機的部件是可聚焦的高能量離子源.上海伯東某客戶為精密光學元器件設備制造商,主要產(chǎn)品為離子束拋光機、磁流變拋光機等,提供精密光學工藝制造研發(fā)服務,是一家精密光學元器件解決方案提供商.經(jīng),該客戶采用上海伯東美國kri直流電源式考夫曼離子源kdc系列成功應用于光學鍍膜離子束拋光機.
kri離子源用于離子束拋光機:
應用方向：非接觸式亞納米離子束表面修形
應用領域：半導體/精密光學
產(chǎn)品類別：高精密光學器件
加工指標：
1.加工尺寸能力5-1200mm；
2.采用非接觸式加工,無邊緣效應,不產(chǎn)生亞表面損傷；
3.亞納米加工精度,可實現(xiàn)面型rms<3nm拋光能力；
4.加工光學元器件形狀有：平面、球面、非球面、自由曲面、離軸非球面等；
5.加工光學元器件材料有：石英玻璃、微晶、低膨脹玻璃、kdp晶體、藍寶石、硅、碳化硅、紅外材料等.
美國kri考夫曼公司新升級gridded kdc系列離子源,新的特性包含自對準離子光學和開關式電源控制.考夫曼離子源kdc系列包含多種不同尺寸的離子源滿足各類應用.考夫曼離子源通過控制離子的強度及濃度,使拋光刻蝕速率快準確,拋光后的基材上獲得平坦,均勻性高的薄膜表面. kdc考夫曼離子源內置型的設計符合離子源在離子拋光機內部的移動運行.
上海伯東美國kri考夫曼離子源kdc系列根據(jù)客戶離子拋光工藝條件提供如下型號:
型號
kdc 10
kdc 40
kdc 75
kdc 100
kdc 160
discharge陽
dc電流
dc電流
dc電流
dc電流
dc電流
離子束流
>10 ma
>100 ma
>250 ma
>400 ma
>650 ma
離子動能
100-1200 v
100-1200 v
100-1200 v
100-1200 v
100-1200 v
柵直徑
1 cm φ
4 cm φ
7.5 cm φ
12 cm φ
16 cm φ
離子束
聚焦,平行,散射
流量
1-5 sccm
2-10 sccm
2-15 sccm
2-20 sccm
2-30 sccm
通氣
ar, kr, xe, o2, n2, h2,其他
典型壓力
< 0.5m torr
< 0.5m torr
< 0.5m torr
< 0.5m torr
< 0.5m torr
長度
11.5 cm
17.1 cm
20.1 cm
23.5 cm
25.2 cm
直徑
4 cm
9 cm
14 cm
19.4 cm
23.2 cm
中和器
燈絲
上海伯東同時提供真空系統(tǒng)所需的渦輪分子泵,真空規(guī),高真空插板閥等產(chǎn)品, 協(xié)助客戶生產(chǎn)研發(fā)高質量的真空系統(tǒng).1978 年 dr. kaufman 博士在美國創(chuàng)立 kaufman & robinson, inc 公司, 研發(fā)生產(chǎn)考夫曼離子源,霍爾離子源和射頻離子源. 美國考夫曼離子源歷經(jīng)40 年改良及發(fā)展. 離子源廣泛用于離子清洗 pc, 離子蝕刻 ibe, 輔助鍍膜 ibad, 離子濺射鍍膜 ibsd 領域.
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伯東企業(yè)（上海）有限公司專注于pfeiffer,氦質譜檢漏儀,intest等