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真空鍍膜設(shè)備中頻磁控濺射知識(shí)
真空鍍膜設(shè)備中頻磁控濺射知識(shí)源分平衡和非平衡式，平衡式靶源鍍膜均勻，非平衡式靶源鍍膜膜層和基體結(jié)合力強(qiáng)。平衡靶源多用于半導(dǎo)體光學(xué)膜，非平衡多用于磨損裝飾膜。不管平衡非平衡，若磁鐵靜止，其磁場(chǎng)特性決定一般靶材利用率小于30%。為*靶材利用率，可采用旋轉(zhuǎn)磁場(chǎng)。但旋轉(zhuǎn)磁場(chǎng)需要旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)，同時(shí)濺射速率要減小。旋轉(zhuǎn)磁場(chǎng)多用于大型或貴重靶。如半導(dǎo)體膜濺射。對(duì)于小型設(shè)備和一般工業(yè)設(shè)備，多用磁場(chǎng)靜止靶源。用磁控靶源濺射金屬和合金很容易，點(diǎn)火和濺射很方便。這是因?yàn)榘校?），等離子體，和被濺零件真空腔體可形成回路。但若濺射絕緣體如陶瓷則回路斷了。于是人們采用高頻電源，回路中加入很強(qiáng)的電容。這樣在絕緣回路中靶材成了一個(gè)電容。
箱式真空鍍膜機(jī)
采用箱式結(jié)構(gòu)，真空系統(tǒng)后置，便于操作和維修；整機(jī)表面平整，方便清潔，特別適合放置在凈化間內(nèi)做穿墻式安裝。
設(shè)備真空系統(tǒng)抽速大，具有抽氣時(shí)間短，真空度高，生產(chǎn)周期短等優(yōu)點(diǎn)。
采用管狀加熱器上烘烤，烘烤溫度均勻，壽命長(zhǎng)，可達(dá)到烘烤溫度350℃，烘烤均勻性270℃±10℃。
工件轉(zhuǎn)動(dòng)采用上部中心驅(qū)動(dòng)，軸承帶水冷，磁流體密封，轉(zhuǎn)動(dòng)平穩(wěn)可靠。
采用石英晶體膜厚控制儀，可實(shí)現(xiàn)鍍膜過程的自動(dòng)控制。
采用*的鍍膜控制系統(tǒng)，人機(jī)操作界面美觀實(shí)用，系統(tǒng)，可實(shí)現(xiàn)系統(tǒng)的手動(dòng)、半自動(dòng)和全自動(dòng)操作。
適用范圍:用于生產(chǎn)ir-cut濾光片、分色濾光片、高反射膜、ar膜、長(zhǎng)波通、短波通和多種電學(xué)薄膜
真空鍍膜設(shè)備作業(yè)時(shí)的應(yīng)急預(yù)案,你懂多少?
首先設(shè)備工作一段時(shí)間，需要清理打掃，一般50到70爐次，需清理打掃，把粉塵清出爐外，然后空爐工作一次。工作的方式是先抽空為真空度高于10-2pa時(shí)加熱，加熱溫度一般高于正常使用溫度的20℃。在高爐溫時(shí)保溫一個(gè)小時(shí)以上，然后自然冷卻。這樣使設(shè)備內(nèi)部空間保持清潔。然后應(yīng)該先涂少量真空泵油對(duì)旋轉(zhuǎn)部件的潤(rùn)滑表面。請(qǐng)注意清潔，非鐵，沙子和灰塵進(jìn)入真空泵，定位要接觸良好。真空泵的安裝應(yīng)轉(zhuǎn)動(dòng)輕松，無凹凸不平和堵塞現(xiàn)象嚴(yán)重。真空鍍膜設(shè)備所用充氣氣瓶需更換時(shí)，拆掉穩(wěn)壓閥，換上一瓶新氣，一定要注意安裝時(shí)不許漏氣。在換上新氣瓶后，在工件沒加熱前，應(yīng)在抽空過程中對(duì)爐內(nèi)充氣，以便在換氣瓶過程中造成的管路內(nèi)存有的大氣抽出，使充氣管路保持清潔。正常工作時(shí)，如果發(fā)現(xiàn)設(shè)備突然漏氣，如馬上能找到泄，須用真空封泥把泄封住，待工作完畢后，再做處理。如不能確定*處，則應(yīng)立即停止工作，然后檢修。
我們經(jīng)常有時(shí)候會(huì)碰到機(jī)器在運(yùn)行的時(shí)候，碰到高溫時(shí)斷水、斷電，這是讓人頭疼的事情。因此用戶好在設(shè)備安裝時(shí)建有備用水箱或者連有自來水管。設(shè)備在高溫時(shí)斷水、斷電‘此時(shí)，泵、閥門均處于關(guān)閉狀態(tài)，操作人員應(yīng)馬上接通備用水或自來水，對(duì)設(shè)備進(jìn)行水冷，如不能很快來電，還應(yīng)打開充放氣系統(tǒng)的手動(dòng)充氣閥，對(duì)設(shè)備進(jìn)行充氣保護(hù)，充氣壓力為-0.02mpa左右。然后，把控制柜上的所有按鈕關(guān)至“關(guān)”的位置。同事用濕毛巾搭在電*引出接口處，定期更換，以免電*接口過熱，造成密封圈損壞。