TJ光學掩模板蒸鍍掩模板柔性掩膜激光切割 精密加工

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光刻掩膜版（又稱光罩，英文為mask reticle），簡稱掩膜版，是微納加工技術常用的光刻工藝所使用的圖形母版。由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜圖形結構，再通過過程將圖形信息轉移到產(chǎn)品基片上。
待加工的掩膜版由玻璃/石英基片、鉻層和光刻膠層構成。其圖形結構可通過制版工藝加工獲得，常用加工設備為直寫式光刻設備，如激光直寫光刻機、電子束光刻機等。
掩膜版應用十分廣泛，在涉及光刻工藝的領域都需要使用掩膜版，如ic（integrated circuit，集成電路）、fpd（flat panel display，平板顯示器）、pcb（printed circuit boards，印刷電路板）、mems（micro electro mechanical systems，微機電系統(tǒng)）等。
掩膜版的分類
透明基板
1、透明玻璃 。石英玻璃（quartz glass）蘇打玻璃（soda-lime glass）低膨脹玻璃（low expansion glass）
2、透明樹脂
遮光膜
（1）硬質遮光膜：鉻膜氧化鐵硅化鉬硅。
（2）乳膠。
材料厚度(公制):
0.03mm,0.05mm,0.08mm,0.06mm,0.1mm,0.12mm,0.15mm,0.18mm,0.2mm
產(chǎn)品特點:
激光加工線條均均，無毛剌，口
產(chǎn)品價格:
以材料材質、厚度、精度要求、量產(chǎn)數(shù)量綜合核定
加工能力:可大批量加工
樣品提供:
付費打樣，樣品內(nèi)，快24小時出樣，量大可申請樣品
梁工
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